其实在芯片生产方面,真正的难度在于光刻机而不是刻蚀机。这里应该会有人疑问,两者有何区别吧。其实来个比喻就晓得了,比如木匠施工,光刻机好比木料上用墨斗划线,而刻蚀机相当于用斧子、刨子等具体施工。而在刻蚀机方面,我国已经取得了非常大的成绩。比如7、5纳米的刻蚀机我们也能自主生产,现在真正的难点在于光刻机。芯片生产要经历高达500道左右的工序,必须经过光刻机放样,刻蚀机施工,清洗机清洗。这意味着光刻机放样达不到精度,刻蚀机就失去用武之地了。
难就难在光刻机,它在本土可以说是空白,这就需要中国科学家们经过漫长的时间来研究!光刻机原理看似简单,就是用光将掩膜板上的电路结构复制到硅片,过程看似简单,但是难倒了本土众多企业。光刻机和刻蚀机,一个是在硅片做好电路模子,刻蚀机就在硅片已做好的模子上做精细雕刻。就是这样的看似简单的过程,其技术含量太高。
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